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  • Planarer Kupferziel
    Das planare Kupferziel ist ein flaches, diskussiertes oder rechteckiges Sputterziel, das in PVD-Prozessen (Physical Dampf Dampfablagerung) verwendet wird, um dünne Kupferfilme auf Substraten
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  • Rotary Kupferziel
    Das Rotationskupferziel, das auch als rotierbares oder zylindrisches Sputter -Ziel bezeichnet wird, wird in bestimmten Arten von Sputtersystemen wie Magnetron -Spotten verwendet, um die
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John Damon star star star star star
Wir arbeiten seit vielen Jahren mit diesem Hersteller zusammen und ihre Produkte sind von guter Qualität.
Patricia Orellana star star star star star
Die Qualität des Artikels ist gut, meine Kunden lieben es!
Scott Jameson star star star star star
Wir haben immer gewusst, dass Ihr Unternehmen einen großartigen Ruf in der Branche hat, und dies ist eine seltene Gelegenheit für uns, von Ihnen zu lernen!
Wilbert Jameson star star star star star
Diese Waren wurden mir in gutem Zustand geliefert. Danke schön!
Coleman Hood star star star star star
Qualität ist die Lebensdauer des Unternehmens, Qualität ist der Vorteil des Unternehmens, Qualität ist die Kraft der Unternehmensentwicklung, die Qualität hängt von allen Mitarbeitern ab, um
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