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Planarer KupferzielDas planare Kupferziel ist ein flaches, diskussiertes oder rechteckiges Sputterziel, das in PVD-Prozessen (Physical Dampf Dampfablagerung) verwendet wird, um dünne Kupferfilme auf SubstratenMehr
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Rotary KupferzielDas Rotationskupferziel, das auch als rotierbares oder zylindrisches Sputter -Ziel bezeichnet wird, wird in bestimmten Arten von Sputtersystemen wie Magnetron -Spotten verwendet, um dieMehr
Das Zitat dieses Lieferanten ist angemessen und sie haben auch viele gute Vorschläge zum Designschema abgegeben.
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