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  • Rotary Kupferziel
    Das Rotationskupferziel, das auch als rotierbares oder zylindrisches Sputter -Ziel bezeichnet wird, wird in bestimmten Arten von Sputtersystemen wie Magnetron -Spotten verwendet, um die
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  • Planarer Kupferziel
    Das planare Kupferziel ist ein flaches, diskussiertes oder rechteckiges Sputterziel, das in PVD-Prozessen (Physical Dampf Dampfablagerung) verwendet wird, um dünne Kupferfilme auf Substraten
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Obwohl während der Zusammenarbeit einige unangenehme Dinge passiert sind, haben Sie uns immer noch mit Ihrer Aufrichtigkeit berührt.
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