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Rotary KupferzielDas Rotationskupferziel, das auch als rotierbares oder zylindrisches Sputter -Ziel bezeichnet wird, wird in bestimmten Arten von Sputtersystemen wie Magnetron -Spotten verwendet, um dieMehr -
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Planarer KupferzielDas planare Kupferziel ist ein flaches, diskussiertes oder rechteckiges Sputterziel, das in PVD-Prozessen (Physical Dampf Dampfablagerung) verwendet wird, um dünne Kupferfilme auf SubstratenMehr
Frances Snow
Als Menschen in derselben Branche wissen wir auch, dass sich dieser Markt sehr schnell verändert, aber dieses Unternehmen kann Tiefe lernen und Fortschritte machen und verschiedene Details der
Ella Branham
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