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![Planarer Kupferziel]()
Planarer KupferzielDas planare Kupferziel ist ein flaches, diskussiertes oder rechteckiges Sputterziel, das in PVD-Prozessen (Physical Dampf Dampfablagerung) verwendet wird, um dünne Kupferfilme auf SubstratenMehr -
![Rotary Kupferziel]()
Rotary KupferzielDas Rotationskupferziel, das auch als rotierbares oder zylindrisches Sputter -Ziel bezeichnet wird, wird in bestimmten Arten von Sputtersystemen wie Magnetron -Spotten verwendet, um dieMehr
Anthony White
Die Qualität dieser Produkte ist sehr gut und ich hoffe, dass mehr Menschen diesem Lieferanten vertrauen.
Peter Espinosa
Diese Produkte haben mich nicht enttäuscht und sind auch einen Kauf wert!
Jason Osbourne
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Marlin Culpepper
Das Unternehmen arbeitet seit vielen Jahren hart und der Grund, warum es überlebt, ist, dass es immer den Bedürfnissen des Marktes genau befolgt und qualitativ hochwertige und innovative Produkte
Gustavo Sanders
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