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![Planarer Kupferziel]()
Planarer KupferzielDas planare Kupferziel ist ein flaches, diskussiertes oder rechteckiges Sputterziel, das in PVD-Prozessen (Physical Dampf Dampfablagerung) verwendet wird, um dünne Kupferfilme auf Substraten...Mehr -
![Rotary Kupferziel]()
Rotary KupferzielDas Rotationskupferziel, das auch als rotierbares oder zylindrisches Sputter -Ziel bezeichnet wird, wird in bestimmten Arten von Sputtersystemen wie Magnetron -Spotten verwendet, um die...Mehr
Jean Diehl
Obwohl dies zum ersten Mal zusammen war, waren wir beeindruckt von Ihrer Effizienz und einer guten Einstellung.
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Das Management und die Professionalität der Produktproduktion und des Verkaufsteams dieses Lieferanten im gesamten Prozess von der neuen Produktkonzeption bis zur Produktion sind in der Branche
Roger Marcotte
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